ಇತ್ತೀಚೆಗೆ, ತ್ಸಿಂಗುವಾ ವಿಶ್ವವಿದ್ಯಾಲಯದ ರಸಾಯನಶಾಸ್ತ್ರ ವಿಭಾಗದ ಪ್ರೊಫೆಸರ್ ಕ್ಸು ಹುವಾಪಿಂಗ್ ನೇತೃತ್ವದ ಸಂಶೋಧನಾ ತಂಡವು ತೀವ್ರ ನೇರಳಾತೀತ (EUV) ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ವಸ್ತುಗಳಲ್ಲಿ ಗಮನಾರ್ಹ ಪ್ರಗತಿಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಿದೆ. ಅವರು ಪಾಲಿಟೆಲ್ಲುಆಕ್ಸೇನ್ (PTeO) ಆಧಾರಿತ ಹೊಸ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಅನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿದರು, ಮುಂದುವರಿದ ಅರೆವಾಹಕ ತಯಾರಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಪ್ರಮುಖ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಹೊಸ ವಿನ್ಯಾಸ ತಂತ್ರವನ್ನು ನೀಡಿದರು.

ಇಂಟಿಗ್ರೇಟೆಡ್ ಸರ್ಕ್ಯೂಟ್ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳು 7nm ನೋಡ್ ಮತ್ತು ಅದರಾಚೆಗೆ ಮುಂದುವರೆದಂತೆ, 13.5 nm ತರಂಗಾಂತರದ EUV ಲಿಥೋಗ್ರಫಿಯು ಮುಂದುವರಿದ ಚಿಪ್ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವ ಪ್ರಮುಖ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವಾಗಿದೆ. ಆದಾಗ್ಯೂ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರತಿಫಲನ ನಷ್ಟ ಮತ್ತು ಕಡಿಮೆ ಹೊಳಪಿನಂತಹ EUV ಬೆಳಕಿನ ಮೂಲಗಳ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ದಕ್ಷತೆ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳು ಮತ್ತು ದೋಷ ನಿಯಂತ್ರಣಕ್ಕೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್‌ಗಳ ಮೇಲೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಸವಾಲುಗಳನ್ನು ಹೇರುತ್ತವೆ. ಪ್ರಸ್ತುತ ಮುಖ್ಯವಾಹಿನಿಯ EUV ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್‌ಗಳು ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಲು ರಾಸಾಯನಿಕ ವರ್ಧನೆ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನಗಳು ಅಥವಾ ಲೋಹ-ಸಂವೇದನಾಶೀಲ ಕ್ಲಸ್ಟರ್‌ಗಳನ್ನು ಅವಲಂಬಿಸಿರುತ್ತಾರೆ ಆದರೆ ಸಂಕೀರ್ಣ ರಚನೆಗಳು, ಅಸಮ ಘಟಕ ವಿತರಣೆ, ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಗಳ ಸುಲಭ ಪ್ರಸರಣ ಮತ್ತು ಸ್ಟಾಕಾಸ್ಟಿಕ್ ದೋಷಗಳ ಪರಿಚಯದಂತಹ ಸಮಸ್ಯೆಗಳನ್ನು ಆಗಾಗ್ಗೆ ಎದುರಿಸುತ್ತಾರೆ. ಆದರ್ಶ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸಲು ಈ ಅಡಚಣೆಗಳನ್ನು ಭೇದಿಸುವುದು ಪ್ರಸ್ತುತ EUV ಲಿಥೋಗ್ರಫಿ ವಸ್ತುಗಳ ಕ್ಷೇತ್ರದಲ್ಲಿ ಒಂದು ಪ್ರಮುಖ ಸವಾಲಾಗಿದೆ. ಆದರ್ಶ EUV ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಏಕಕಾಲದಲ್ಲಿ ಈ ಕೆಳಗಿನ ನಾಲ್ಕು ಪ್ರಮುಖ ಅಂಶಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರಬೇಕು ಎಂದು ಶೈಕ್ಷಣಿಕ ಸಮುದಾಯವು ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಒಪ್ಪುತ್ತದೆ: 1) ಮಾನ್ಯತೆ ಪ್ರಮಾಣವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಮತ್ತು ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಹೆಚ್ಚಿನ EUV ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯ; 2) ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿ ಬಳಕೆಯ ದಕ್ಷತೆ, ಬೆಳಕಿನ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಸಣ್ಣ ಪರಿಮಾಣದೊಳಗೆ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ವಸ್ತುವಿನ ಕರಗುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಬದಲಾವಣೆಗಳಾಗಿ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಪರಿವರ್ತಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಎಂದು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳುವುದು; 3) ಯಾದೃಚ್ಛಿಕ ಘಟಕ ವಿತರಣೆ ಮತ್ತು ಪ್ರಸರಣದಿಂದ ಉಂಟಾಗುವ ದೋಷದ ಶಬ್ದವನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಲು ಆಣ್ವಿಕ-ಪ್ರಮಾಣದ ಏಕರೂಪತೆ; 4) ರೆಸಲ್ಯೂಶನ್ ಮೇಲೆ ಧಾತುರೂಪದ ವೈಶಿಷ್ಟ್ಯದ ಗಾತ್ರದ ಪ್ರಭಾವವನ್ನು ತೆಗೆದುಹಾಕಲು ಮತ್ತು ರೇಖೆಯ ಅಂಚಿನ ಒರಟುತನವನ್ನು (LER) ಕಡಿಮೆ ಮಾಡಲು ಕನಿಷ್ಠ ಕಟ್ಟಡ ಘಟಕಗಳು. ದೀರ್ಘಕಾಲದವರೆಗೆ, ಕೆಲವೇ ವಸ್ತು ವ್ಯವಸ್ಥೆಗಳು ಎಲ್ಲಾ ನಾಲ್ಕು ಮಾನದಂಡಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸಬಲ್ಲವು.

ಪ್ರೊಫೆಸರ್ ಕ್ಸು ಹುವಾಪಿಂಗ್ ಅವರ ಸಂಶೋಧನಾ ಗುಂಪು, ಪಾಲಿಟೆಲ್ಲುಆಕ್ಸೇನ್‌ನ ಹಿಂದಿನ ಆವಿಷ್ಕಾರವನ್ನು ಆಧರಿಸಿ, ಮೇಲೆ ತಿಳಿಸಲಾದ ಆದರ್ಶ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್‌ನ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳನ್ನು ಪೂರೈಸುವ ಒಂದು ಕಾದಂಬರಿ EUV ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಅನ್ನು ಅಭಿವೃದ್ಧಿಪಡಿಸಿತು. ಈ ಅಧ್ಯಯನದಲ್ಲಿ, ತಂಡವು ನೇರವಾಗಿ Te─O ಬಂಧಗಳ ಮೂಲಕ ಪಾಲಿಮರ್ ಬೆನ್ನೆಲುಬಿನಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ-EUV-ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಅಂಶವಾದ ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ (Te) ಅನ್ನು ಸೇರಿಸಿತು. ಜಡ ಅನಿಲಗಳಾದ ಕ್ಸೆನಾನ್ (Xe), ರೇಡಾನ್ (Rn) ಮತ್ತು ವಿಕಿರಣಶೀಲ ಅಂಶ ಅಸ್ಟಟೈನ್ (At) ಹೊರತುಪಡಿಸಿ ಎಲ್ಲಾ ಅಂಶಗಳಲ್ಲಿ ಟೆಲ್ಲುರಿಯಮ್ ಅತ್ಯಧಿಕ EUV ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಅಡ್ಡ-ವಿಭಾಗವನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ. ಇದರ EUV ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್‌ಗಳು ಮತ್ತು Zn, Zr, Hf ಮತ್ತು Sn ನಂತಹ ಲೋಹದ ಅಂಶಗಳಲ್ಲಿ ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸುವ ಅಲ್ಪಾವಧಿಯ ಅಂಶಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನದಾಗಿದೆ, ಇದು ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್‌ನ EUV ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ. ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, Te─O ಬಂಧದ ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಕಡಿಮೆ ವಿಘಟನೆಯ ಶಕ್ತಿಯು EUV ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವಿಕೆಯ ಮೇಲೆ ನೇರ ಮುಖ್ಯ ಸರಪಳಿ ವಿಭಜನೆಯನ್ನು ಅನುಮತಿಸುತ್ತದೆ, ಕರಗುವಿಕೆ ಬದಲಾವಣೆಗಳನ್ನು ಪ್ರೇರೇಪಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ-ಸೂಕ್ಷ್ಮತೆಯ ಧನಾತ್ಮಕ-ಟೋನ್ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯನ್ನು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ. ಈ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ಅನ್ನು ಏಕ-ಘಟಕ ಸಣ್ಣ ಅಣುಗಳಿಂದ ಮಾತ್ರ ಸಂಶ್ಲೇಷಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಅತ್ಯಂತ ಸರಳ ವಿನ್ಯಾಸದ ಅಡಿಯಲ್ಲಿ ಆದರ್ಶ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್‌ನ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಸಂಯೋಜಿಸುತ್ತದೆ, ಮುಂದಿನ ಪೀಳಿಗೆಯ EUV ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್‌ಗಳನ್ನು ನಿರ್ಮಿಸಲು ಸ್ಪಷ್ಟ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಸಾಧ್ಯವಾದ ಮಾರ್ಗವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.

ಪಾಲಿಟೆಲ್ಲುಆಕ್ಸೇನ್: ಆದರ್ಶ EUV ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ವಸ್ತು

ಈ ಸಂಶೋಧನೆಯು ಹೆಚ್ಚಿನ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುವ ಅಂಶ Te, ಮುಖ್ಯ ಸರಪಳಿ ಕಸಿ ಕಾರ್ಯವಿಧಾನ ಮತ್ತು ವಸ್ತು ಏಕರೂಪತೆಯನ್ನು ಸಂಯೋಜಿಸುವ ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್ ವಿನ್ಯಾಸ ಮಾರ್ಗವನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ. ಇದು ಮುಂದಿನ ಪೀಳಿಗೆಯ EUV ಲಿಥೋಗ್ರಫಿ ವಸ್ತುಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯನ್ನು ಉತ್ತೇಜಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಮುಂದುವರಿದ ಅರೆವಾಹಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಗಳ ತಾಂತ್ರಿಕ ನಾವೀನ್ಯತೆಗೆ ಸಹಾಯ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಎಂದು ನಿರೀಕ್ಷಿಸಲಾಗಿದೆ.

ಸಂಬಂಧಿತ ಸಾಧನೆಯನ್ನು ಜುಲೈ 16 ರಂದು ಸೈನ್ಸ್ ಅಡ್ವಾನ್ಸಸ್‌ನಲ್ಲಿ "EUV ಫೋಟೊರೆಸಿಸ್ಟ್‌ಗೆ ಆದರ್ಶ ಸೂತ್ರೀಕರಣವಾಗಿ ಪಾಲಿಟೆಲ್ಲುಆಕ್ಸೇನ್" ಎಂಬ ಶೀರ್ಷಿಕೆಯಡಿಯಲ್ಲಿ ಪ್ರಕಟಿಸಲಾಯಿತು.

ನಮ್ಮ ಬಗ್ಗೆ SLKOR:

SLKORಚೀನಾದ ಶೆನ್ಜೆನ್‌ನಲ್ಲಿ ಪ್ರಧಾನ ಕಚೇರಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ, ವಿದ್ಯುತ್ ಅರೆವಾಹಕ ವಲಯದಲ್ಲಿ ವೇಗವಾಗಿ ಬೆಳೆಯುತ್ತಿರುವ ರಾಷ್ಟ್ರೀಯ ಹೈಟೆಕ್ ಉದ್ಯಮವಾಗಿದೆ. ಬೀಜಿಂಗ್ ಮತ್ತು ಸುಝೌನಲ್ಲಿ ಸಂಶೋಧನೆ ಮತ್ತು ಅಭಿವೃದ್ಧಿ ಕೇಂದ್ರಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುವ ಇದರ ಪ್ರಮುಖ ತಾಂತ್ರಿಕ ತಂಡವು ತ್ಸಿಂಗುವಾ ವಿಶ್ವವಿದ್ಯಾಲಯದಿಂದ ಹುಟ್ಟಿಕೊಂಡಿದೆ. ಸಿಲಿಕಾನ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ (SiC) ವಿದ್ಯುತ್ ಸಾಧನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದಲ್ಲಿ ನಾವೀನ್ಯಕಾರರಾಗಿ, SLKORನ ಉತ್ಪನ್ನಗಳನ್ನು ಹೊಸ ಇಂಧನ ವಾಹನಗಳು, ದ್ಯುತಿವಿದ್ಯುಜ್ಜನಕ ವಿದ್ಯುತ್ ಉತ್ಪಾದನೆ, ಕೈಗಾರಿಕಾ IoT ಮತ್ತು ಗ್ರಾಹಕ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ಸ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ವ್ಯಾಪಕವಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಜಾಗತಿಕವಾಗಿ 10,000 ಕ್ಕೂ ಹೆಚ್ಚು ಗ್ರಾಹಕರಿಗೆ ನಿರ್ಣಾಯಕ ಸೆಮಿಕಂಡಕ್ಟರ್ ಪರಿಹಾರಗಳನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.

ಕಂಪನಿಯು ವಾರ್ಷಿಕವಾಗಿ 2 ಬಿಲಿಯನ್ ಯೂನಿಟ್‌ಗಳಿಗಿಂತ ಹೆಚ್ಚು ವಿದ್ಯುತ್ ಉತ್ಪಾದಿಸುತ್ತದೆ, ಅದರ SiC MOSFET ಗಳು ಮತ್ತು 5 ನೇ ತಲೆಮಾರಿನ ಅಲ್ಟ್ರಾಫಾಸ್ಟ್ ರಿಕವರಿ SBD ಡಯೋಡ್‌ಗಳು ದಕ್ಷತೆಯ ಅನುಪಾತ ಮತ್ತು ಉಷ್ಣ ಸ್ಥಿರತೆಯಲ್ಲಿ ಉದ್ಯಮದ ಮಾನದಂಡಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿಸುತ್ತವೆ. SLKOR 100 ಕ್ಕೂ ಹೆಚ್ಚು ಆವಿಷ್ಕಾರ ಪೇಟೆಂಟ್‌ಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ ಮತ್ತು 2,000+ ಉತ್ಪನ್ನ ಮಾದರಿಗಳನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ, ವಿದ್ಯುತ್ ಸಾಧನಗಳು, ಸಂವೇದಕಗಳು ಮತ್ತು ವಿದ್ಯುತ್ ನಿರ್ವಹಣಾ ಐಸಿಗಳಲ್ಲಿ ತನ್ನ ಐಪಿ ಪೋರ್ಟ್‌ಫೋಲಿಯೊವನ್ನು ನಿರಂತರವಾಗಿ ವಿಸ್ತರಿಸುತ್ತಿದೆ. ISO 9001, EU RoHS/REACH, ಮತ್ತು CP65 ಅನುಸರಣೆ ಸೇರಿದಂತೆ ಪ್ರಮಾಣೀಕರಣಗಳು ತಾಂತ್ರಿಕ ನಾವೀನ್ಯತೆ, ನೇರ ಉತ್ಪಾದನೆ ಮತ್ತು ಸುಸ್ಥಿರ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೆ ಕಂಪನಿಯ ದೃಢವಾದ ಬದ್ಧತೆಯನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತವೆ.