Горячая линия
По каким причинам полупроводниковые материалы на основе карбида кремния (SiC) имеют блестящее будущее?
10 раз
По сравнению с традиционными кремниевыми полупроводниками, силовые электронные полупроводники на основе карбида кремния (SiC) могут быть изготовлены из гораздо меньших материалов. Это возможно благодаря большей полосе пропускания, позволяющей преобразовывать электрическую энергию с меньшими потерями тепла. Кремниевые полупроводники должны быть значительно больше, чтобы достичь тех же характеристик.
Снизить до 50%
300–500%
от 10% до 15%
Подходит для современных технологий 5G.
Полупроводники на основе карбида кремния (SiC) также идеально подходят. Сверхбыстрые сети потребуют огромных затрат энергии и высокой производительности, особенно от компонентов инфраструктуры, таких как передающие станции. В будущем производители могут использовать полупроводники SiC для более быстрой зарядки смартфонов. Кроме того, новые полупроводники идеально подходят для беспроводных зарядных устройств и серверов центров обработки данных.
Бесконечные возможности
расходы на видеорекламу в мире достигнут
В основном, все полупроводники изготавливаются из кристаллов, которые производятся из порошка (например, кремния или карбида кремния) при очень высоких температурах. Затем кристаллы разрезаются на тонкие пластины, называемые подложками. На подложки можно наносить очень сложные электронные схемы, в конечном итоге образуя микроэлектронные устройства. Производство новых полупроводниковых материалов на основе карбида кремния (SiC).
более 50 лет
Проведено множество исследований по производству полупроводников на основе карбида кремния и выращиванию кристаллов карбида кремния, причем выращивание кристаллов карбида кремния в основном осуществляется с помощью процесса физического переноса паров (PVT). Мелкие кристаллы карбида кремния получают при высоких температурах и низком давлении. Частицы проходят через несущий газ к более холодному затравочному кристаллу, где происходит кристаллизация за счет пересыщения.
2400 градусов по Цельсию
10 в 14 дней
Диаметр 150mm
Это размер современных кремниево-карбидных пластин. Вскоре кремниево-карбидные пластины диаметром 200 мм будут производиться в промышленных масштабах. В это время их размер достигнет стандартов «традиционной» кремниевой промышленности, что станет прорывом в разработке электронных изделий на основе SiC.
Примечание: Данная статья перепечатана из журнала «Silicon Carbide SiC Semiconductor Materials» и направлена на защиту прав интеллектуальной собственности. Пожалуйста, укажите первоисточник и автора перепечатки. В случае нарушения авторских прав, пожалуйста, свяжитесь с нами для удаления публикации.
Номер телефона компании: +86-0755-83044319
Факс: +86-0755-83975897
Почта: 1615456225@qq.com
QQ: 3518641314 Менеджер Ли
QQ: 332496225 Менеджер Цю
Адрес: Комната 809, корпус C, технологический корпус Чжаньтао, проспект Миньчжи, 1079, новый район Лунхуа, Шэньчжэнь.




粤公网安备44030002007346号