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Was sind die Gründe dafür, dass Siliziumkarbid (SiC)-Halbleitermaterialien eine vielversprechende Zukunft haben?
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Im Vergleich zu herkömmlichen Silizium-Halbleitern können SiC-Leistungselektronik-Halbleiter aus deutlich kleineren Materialien hergestellt werden. Dies ist möglich, da sie eine größere Bandbreite aufweisen und somit elektrische Energie mit geringeren Wärmeverlusten umwandeln können. Silizium-Halbleiter müssen wesentlich größer sein, um die gleiche Leistung zu erzielen.
Bis zu 50 % reduzieren
300–500 %
10% bis 15%
Geeignet für moderne 5G-Technologie
SiC-Halbleiter sind ebenfalls ideal. Ultraschnelle Netzwerke benötigen enorme Leistungsmengen, insbesondere von Infrastrukturkomponenten wie Sendestationen. Um Smartphones schneller aufzuladen, könnten Hersteller zukünftig SiC-Halbleiter einsetzen. Darüber hinaus eignen sich die neuen Halbleiter ideal für kabellose Ladegeräte und Server in Rechenzentren.
Unendliche Möglichkeiten
412 Milliarden Dollar
Grundsätzlich bestehen alle Halbleiter aus Kristallen, die aus Pulver (wie Silizium oder Siliziumkarbid) bei sehr hohen Temperaturen hergestellt werden. Die Kristalle werden anschließend in dünne Scheiben, sogenannte Wafer, geschnitten. Auf diese Wafer lassen sich sehr komplexe elektronische Schaltungen aufbringen, wodurch letztendlich mikroelektronische Bauelemente entstehen. Herstellung neuer SiC-Halbleitermaterialien
mehr als 50 Jahre
Es wurden umfangreiche Forschungsarbeiten zur Herstellung von Siliciumcarbid-Halbleitern und zum Wachstum von Siliciumcarbid-Kristallen durchgeführt. Das Kristallwachstum von Siliciumcarbid erfolgt hauptsächlich mittels physikalischer Dampftransportabscheidung (PVT). Dabei werden kleine Siliciumcarbid-Kristalle bei hohen Temperaturen und niedrigen Drücken erzeugt. Die Partikel passieren das Trägergas und gelangen so zum kühleren Impfkristall, wo die Kristallisation aufgrund von Übersättigung stattfindet.
2400 Grad Celsius
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Durchmesser 150mm
Dies entspricht der Größe aktueller Siliziumkarbid-Wafer. Schon bald werden SiC-Wafer mit einem Durchmesser von 200 mm industriell gefertigt. Damit erreichen sie die Standards der traditionellen Siliziumindustrie und stellen einen Durchbruch bei SiC-basierten Elektronikprodukten dar.
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